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はじめての半導体リソグラフィ技術
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はじめての半導体リソグラフィ技術 現場の即戦力
岡崎信次

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商品基本情報

  • 発売日:  2012年01月
  • 著者/編集:   岡崎信次鈴木章義
  • 出版社:   技術評論社
  • 発行形態:  単行本
  • ページ数:  301p
  • ISBNコード:  9784774149394

商品説明

半導体リソグラフィ技術は、半導体集積回路の微細化、高集積化を牽引してきた中心的な技術です。しかもその技術は、パターンの原版となるマスクを作るマスク技術から、露光を行う露光装置技術、そして露光した潜像をレジストパターンとして、実際の加工につなげるレジストまで含む大きなシステム技術となっています。
本書では、光、電子線、X線、EUV光、その他のエネルギー線にわけて、それらのエネルギーレベル毎のリソグラフィ技術をわかりやすく紹介しています。さらにリソグラフィ技術を支えるマスク技術、レジスト技術、計測評価技術についても詳細に解説しています。
またリソグラフィ技術の進化が必ずしも半導体技術だけを中心にして進むとは限らない状況も生まれています。今後はメディアやMEMSなど、さまざまな応用分野に、リソグラフィ技術が応用されると思われます。そういう分野の方々への入門書としても活用できる一冊です。

【目次】(「BOOK」データベースより)
1章 半導体集積回路の発展とリソグラフィ技術/2章 光リソグラフィ技術/3章 電子線リソグラフィ技術/4章 X線・EUVリソグラフィ技術/5章 その他のリソグラフィ技術/6章 マスク技術/7章 レジスト技術/8章 計測評価技術/9章 リソグラフィ技術の課題と今後の展望

【著者情報】(「BOOK」データベースより)
岡崎信次(オカザキシンジ)
1970年東京工業大学理工学部電子工学科卒業。1970年(株)日立製作所中央研究所に入所。1980年より1年間米国Rensselater Polytechnic Instituteに留学。1994年東京工業大学より工学博士授与。1995年日立製作所半導体事業部、1998年同社デバイス開発センターに異動、同年中央研究所に戻りASETに出向、EUV研究室室長としてEUVリソグラフィ技術の研究に従事。2002年ASET、EUVプロセス技術研究部部長に就任し、2006年日立中研に戻る

鈴木章義(スズキアキヨシ)
1973年東京大学物理工学専門課程修士修了。1973年キヤノン(株)に入社。現在、NGL推進統括部、キヤノンフェロー、SPIEフェロー。1984年光学論文賞、1985年機械振興協会賞、2005年新機械振興会賞。1991年東京大学より工学博士授与

上野巧(ウエノタクミ)
1979年東京工業大学大学院理工学研究科博士課程修了(理博)。1979年(株)日立製作所中央研究所に入所。1995年同社日立研究所、2001年日立化成工業(株)総合研究所、2002年日立化成デュポンマイクロシステムズ(株)、2005年より日立化成工業(株)筑波総合研究所主管研究員(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)

みんなのレビュー

  • 初心者
    くれないのはす
    評価 4.00 4.00
    投稿日:2014年12月19日

    非常に分かりやすい内容でした。
    おもってたより分厚くちょっと抵抗感を持ってしまいましたが、
    ここが知りたいというところが丁寧に記載されてました。

    0人が参考になったと回答

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