超LSIレジストの分子設計
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超LSIレジストの分子設計 (表面・薄膜分子設計シリ-ズ)
津田穣

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商品基本情報

  • 発売日:  1990年04月01日
  • 著者/編集:   津田穣
  • 出版社:   共立出版
  • 発行形態:  全集・双書
  • ページ数:  117p
  • ISBNコード:  9784320085114

商品説明

【目次】(「BOOK」データベースより)
序章 なぜ、レジストの研究をするのか?/第1章 超LSIレジストの要件/第2章 オルソジアゾナフトキノン系フォトレジストの分子設計/第3章 ネガ型レジストの分子設計/第4章 高感度化の分子設計/第5章 ドライ現象のためのレジストの分子設計/第6章 解像力向上技術

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