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半導体製造プロセスと材料
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半導体製造プロセスと材料 (CMCテクニカルライブラリー)
大見忠弘

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商品基本情報

商品説明

【目次】(「BOOK」データベースより)
序論ー半導体固有の製造技術創出:半導体技術はまさにこれから/半導体製造プロセスと材料/リソグラフィ技術/エッチング技術/ウルトラクリーンイオン注入技術/洗浄技術/低環境負荷型真空排気システム/マイクロ波励起高密度プラズマ直接酸化技術/次世代DRAM用ペロブスカイト誘電体キャパシター/電極・配線形成技術/絶縁膜形成技術/CMP用研磨液(スラリー)/超高純度半導体ガス供給技術

【著者情報】(「BOOK」データベースより)
大見忠弘(オオミタダヒロ)
東北大学未来科学技術共同研究センター教授(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)

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